

淨化(huà)原理(lǐ):
其(qí)基本(běn)原理(lǐ)是利用气(qì)體(tǐ)與(yǔ)液體(tǐ)間(jiān)的(de)接觸,而(ér)将气(qì)體(tǐ)中(zhōng)的(de)污染物(wù)傳送到(dào)液體(tǐ)中(zhōng),然后再将清(qīng)潔之(zhī)气(qì)體(tǐ)與(yǔ)被(bèi)污染的(de)液體(tǐ)分(fēn)離达(dá)成(chéng)清(qīng)淨空(kōng)气(qì)的(de)目的(de)。
气(qì)流中(zhōng)的(de)[粒狀污染物(wù)]與(yǔ)洗滌液接觸之(zhī)后,液滴(dī)或(huò)液膜擴敞附于(yú)气(qì)流粒子上(shàng),或(huò)者(zhě)增湿(shī)于(yú)粒子,使粒子借(jiè)着重(zhòng)力、慣性(xìng)力等作(zuò)用达(dá)到(dào)分(fēn)離去(qù)除之(zhī)目的(de)。[气(qì)态污染物(wù)質(zhì)]則借(jiè)着紊流分(fēn)子擴敞等質(zhì)量(liàng)傳送以(yǐ)及(jí)化(huà)学反(fǎn)應(yìng)等現(xiàn)象(xiàng)傳送入(rù)洗滌液體(tǐ)中(zhōng)达(dá)到(dào)與(yǔ)进流气(qì)體(tǐ)分(fēn)離之(zhī)目的(de)。井可在(zài)洗滌液中(zhōng)添加化(huà)学物(wù)質(zhì),以(yǐ)吸收(shōu)方(fāng)式控制气(qì)狀臭味物(wù)質(zhì)。
廢气(qì)經(jīng)由填充式洗滌塔,采气(qì)液逆向(xiàng)吸收(shōu)方(fāng)式處(chù)理(lǐ),即液體(tǐ)自(zì)塔頂向(xiàng)下(xià)以(yǐ)霧(wù)狀(或(huò)小水(shuǐ)滴(dī))噴灑而(ér)下(xià)。廢气(qì)則由塔底(逆向(xiàng)流}达(dá)到(dào)气(qì)液接觸之(zhī)目的(de)。此(cǐ)處(chù)理(lǐ)方(fāng)式,可冷(lěng)却廢气(qì)温(wēn)度、气(qì)體(tǐ)調理(lǐ)、及(jí)颗(kē)粒去(qù)除。再經(jīng)过(guò)除霧(wù)段(duàn)處(chù)理(lǐ)后排入(rù)大(dà)气(qì)中(zhōng)。
結構组成(chéng):
設備本(běn)身包(bāo)含有本(běn)體(tǐ)、填充层(céng)、除霧(wù)层(céng)、循环(huán)酒(jiǔ)水(shuǐ)管路(lù),及(jí)循环(huán)水(shuǐ)槽等。

淨化(huà)原理(lǐ):
电子工業、半導體(tǐ)制造業、PCB制造業、LCD制造業、鋼(gāng)铁(tiě)金(jīn)屬工業、电鍍及(jí)金(jīn)屬表(biǎo)面(miàn)處(chù)理(lǐ)工業、酸(suān)洗流程、染料、制藥、化(huà)学工業、除臭、燃燒廢气(qì)SO×/NO×之(zhī)除去(qù)物(wù)及(jí)其(qí)他(tā)水(shuǐ)溶性(xìng)空(kōng)气(qì)污染物(wù)的(de)處(chù)理(lǐ)。

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